Feb 09, 2026 Deixe um recado

TRUMPF apresenta na Shanghai Optics Expo: a solução de produção em massa-isenta de calor: tecnologia de laser ultravioleta de femtossegundos

(Xangai, China, 6 de fevereiro de 2025) A TRUMPF, fornecedora líder global de máquinas-ferramentas e soluções de tecnologia laser, apresentará sua série TruMicro de tecnologia laser ultrarrápida e suas aplicações relacionadas no LASER World of PHOTONICS CHINA (18-20 de março) em Munique (estande nº: Hall N2, 2406). A TRUMPF também compartilhará suas principais vantagens em lasers UV de femtossegundos, controle de produção de energia e plataformas tecnológicas escaláveis. Atualmente, esta série de produtos recebeu aprovação de produção em massa de vários fabricantes líderes nas indústrias de painéis e semicondutores. A força técnica da TRUMPF no campo de lasers de pulso ultracurto é reconhecida há muito tempo-sua tecnologia de laser de pulso ultracurto ganhou o "Prêmio Alemão do Futuro", demonstrando suas capacidades técnicas em todo o processo, desde pesquisas de ponta até aplicações de produção em massa.

 

Produto em destaque: O laser de femtosegundo UV TruMicro 6320, projetado para produção em massa.

 

O TRUMPF TruMicro 6320 é um laser UV de femtosegundo projetado para produção contínua 24 horas por dia, 7 dias por semana, apresentando o maior recorde de remessa entre os lasers UV de femtosegundo produzidos em massa em todo o mundo. Sua alta-potência estável, duração de pulso ultra{6}}curta e tecnologia líder de duplicação de frequência UV minimizam os efeitos térmicos e permitem um processamento-livre de rebarbas. É particularmente adequado para corte de wafer e corte preciso de materiais de embalagem avançados, melhorando significativamente a produtividade e o rendimento.

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Essencialtecnologias: eucontrole inteligente de saída de energia e modelagem precisa do feixe.

 

Uma das principais competências da TRUMPF reside em suas estratégias avançadas de controle de produção de energia. Em termos de controle-no domínio do tempo, a TRUMPF, com base em seu design avançado de laser e sistemas de controle, pode alcançar estratégias otimizadas de distribuição de energia. Por exemplo, ele pode gerar rapidamente múltiplos pulsos em dezenas de nanossegundos, alcançando um processamento eficiente por meio de efeitos de superposição de energia. Simultaneamente, no domínio espacial, juntamente com uma poderosa tecnologia de modelagem de feixe, a energia do laser é concentrada e transformada em um perfil de feixe que atende aos requisitos do processo. Por exemplo, na perfuração de substratos de embalagens com núcleo de vidro, o TruMicro remodela o feixe gaussiano em um ponto fino, semelhante a uma agulha, processando assim com eficiência e precisão furos em nanoescala na superfície do vidro com excelente estabilidade e repetibilidade do processo.

 

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Suporte poderoso: plataforma expansível

 

A série TruMicro abrange várias plataformas de tecnologia laser avançada, incluindo amplificadores de fibra, disco e placa, oferecendo alta escalabilidade para responder rapidamente às crescentes necessidades de aplicação do mercado e dos clientes. Trumpf também fornece uma variedade de módulos de conversão de comprimento de onda: módulos de duplicação de frequência podem converter lasers infravermelhos de femtossegundos em luz verde, ultravioleta e até mesmo luz ultravioleta profunda; combinado com módulos de compressão de pulso e geração de{1}alta harmônica (HHG), ele pode até gerar luz ultravioleta extrema de 13,5 nm, adequada para aplicações-de ponta, como inspeção de wafer e inspeção de máscara fotográfica.

 

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