Este gigante do laser recebeu uma visita secreta do CEO da TSMC

De acordo com relatos da mídia coreana, o CEO da TSMC, Wei Zhejia, visitou a sede da ASML na Holanda em 26 de maio e, ao mesmo tempo, visitou a gigante do laser industrial comemorativa dos 100 anos da alemã Tonspeed.
O paradeiro de Wei foi revelado por Christophe Fouquet, CEO da ASML, e Nicola Leibinger-Kammüller, CEO da Thomson, via mídia social.
Dizem que a TSMC está considerando a introdução de equipamentos EUV de alta NA para o processo de 1,6 nm após o A16, cuja produção em volume está prevista para o segundo semestre de 2026, e usar os equipamentos EUV de baixa NA existentes até então, que são essenciais para processos de chips sub-2nm.
De acordo com as últimas notícias, a nova velocidade de produção de wafers litográficos EUV High NA da ASML é de 400 a 500 wafers por hora, o padrão atual EUV é de 200 wafers por hora 2-2,5 vezes a velocidade, ou seja, um aumento de 100% a 150%, o que aumentará ainda mais a capacidade de produção e reduzirá os custos.
No ano passado, a Intel foi a primeira na indústria a obter ASML para seu design personalizado de vários equipamentos EUV High NA. A indústria agora espera que a Intel utilize totalmente essa nova geração de litografia em seu processo de semicondutor 14A (1,4 nm).
Anteriormente, a TSMC, por sua vez, havia dito que não compraria o mais recente equipamento EUV High-NA da ASML, que considerou caro demais para fazer sentido econômico até 2026, mas essa ideia parece estar vacilando agora.
O principal protagonista dessa visita secreta não foi apenas a ASML, mas também a gigante do laser TRUMPF da Alemanha. Fundada em 1923, a TRUMPF comemorou seu marco de 100º aniversário no ano passado.
O Trumpf Group é o único fabricante no mundo que pode fornecer fontes de luz para litografia ultravioleta extrema (EUV). Portanto, o negócio de litografia EUV também é um dos focos do desenvolvimento da Trumpf no momento.
Na verdade, a Trafigura vem investindo em sistemas de geração de laser de litografia há mais de 16 anos. Desde 2005, a Trafigura vem cooperando com a Cymer Inc. nos Estados Unidos e continuou a aprofundar a cooperação após a Cymer ter sido adquirida pela ASML. Para esse propósito, a TRUMPF estabeleceu uma subsidiária especializada, a TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, com foco no desenvolvimento e produção de lasers EUV. Em 2015, a ASML encomendou 15 ferramentas de litografia EUV da TRUMPF, marcando o negócio de litografia EUV como a peça central do desenvolvimento da Thomson.
De acordo com o relatório previamente anunciado pela Trafigura para o ano fiscal de 2022/2023 (terminando em 30 de junho de 2023), as vendas totais atingiram 5,4 bilhões de euros, um aumento de 27% em relação ao ano anterior.
Entre eles, as vendas do negócio EUV atingiram 971 milhões de euros, um aumento de 22,2% ano a ano. Principalmente para fornecer dispositivos ultravioleta extremos (EUV) fornecem lasers de dióxido de carbono de ultra-alta potência usados ​​para conduzir a emissão EUV no enorme módulo de fonte de ferramenta de litografia da ASML.
Para o nosso país, ainda não há nenhuma empresa que possa produzir em massa a fonte de luz de litografia EUV. No entanto, de acordo com as últimas notícias, em 14 de maio, o Instituto de Óptica e Máquinas de Precisão de Xangai da Academia Chinesa de Ciências (SIPM), em conjunto com o Instituto de Tecnologia de Harbin (HIT) e o Instituto de Tecnologia de Xangai (SIT), fez um grande avanço no campo do Ultravioleta Extremo (EUV) e raios X suaves, e realizou com sucesso a modulação de luz de vórtice estrutural. Este progresso marcante, não apenas marca que a tecnologia de fonte de luz ultravioleta extrema da China deu um passo importante à frente, mais pesquisa e desenvolvimento de litografia doméstica eliminaram as principais barreiras tecnológicas.
Além disso, algumas empresas nacionais, como AOP Optronics, Fujing Technology, etc., também estão ativamente envolvidas no desenvolvimento e produção de tecnologias relacionadas à fotolitografia. Entre elas, o principal acionista do AOP fotoelétrico Changchun Institute of Optical Machinery da Academia Chinesa de Ciências, que está envolvido na fonte de luz de litografia doméstica, parte óptica do trabalho de P&D;
E a Fuching Technology é um unicórnio tecnológico de materiais de litografia upstream sob a CAS, que desenvolveu o KBBF, um material de cristal óptico não linear, nome completo KBeNbBFO, que pode converter luz laser em luz laser ultravioleta profunda de comprimento de onda de 176 nm.
Esta fonte de luz laser ultravioleta profunda tem energia extremamente alta e concentração muito alta, então pode ser usada para criar lasers de estado sólido ultravioleta profundo. E no campo da fabricação de chips, pode melhorar a precisão da fotolitografia existente em mais de 10 vezes, melhorando muito a eficiência e a precisão da fabricação de chips.
Atualmente, embora esses avanços nacionais ainda não tenham atingido o nível de produção em massa de fontes de luz litográficas EUV, eles lançaram as bases para o desenvolvimento futuro da China no campo da tecnologia litográfica.